檢索結果：共12筆資料 檢索策略： "壓電".ckeyword (精準) and year="110"
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化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，CVD)，為現在半導體製程薄膜階段主要方式，原因為優良的覆蓋率與可控制薄膜厚度，真空鍍膜的技術發展至今已經相當成熟，而本實驗將使用常…
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隨著人口增加、工業發展，對水和能源的需求也不斷增加。在許多發展中國家與乾旱地區，水資源與能源的短缺因全球暖化的影響已逐漸加劇。收集霧氣中的水分被認為是一種解決水資源短缺的方法，空氣流動所產生的風更是…
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JIS SKD11冷作鋼非常適合用於模具或機械工具之製造業上，然而，由於該鋼材之模具或機械工具之缺點為壽命短，因此使它們的使用量大大降低。因此，本論文之研究目的在常壓電漿噴射束(Atmospheri…
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